论著
氦气源低温常压等离子体处理对牙本质表面性能影响的体外研究
中华口腔医学杂志, 2021,56(2) : 182-189. DOI: 10.3760/cma.j.cn112144-20200410-00203
摘要
目的

探讨不同参数设定下氦气源低温常压等离子体(non-thermal atmospheric pressure plasma,NTAPP)射流处理对牙本质表面温度、润湿性以及胶原纤维微观形貌的影响,为NTAPP在口腔领域的研究和应用提供参考。

方法

将NTAPP发生装置的氦气气体流量分别设定为3、4、5 L/min,放电输入功率分别设定为8、9、10、11 W,分别处理12组人牙本质试件(西安医学院第一、第二附属医院口腔科提供,每组样本量为6),采用红外热像仪连续测量NTAPP射流处理60 s内试件表面温度,绘制温度曲线。测量上述气体流量、输入功率设定下NTAPP射流处理5、10、15、20 s后牙本质和未经NTAPP处理的牙本质(阴性对照组)接触角(每组样本量均为6)。场发射扫描电镜(field emission scanning electron microscopy,FE-SEM)观察氦气气体流量为5 L/min,输入功率分别为8、9、10、11 W设定下NTAPP射流处理5、10、15、20 s的各NTAPP组及阴性对照组(未行NTAPP处理)(每组样本量均为4)牙本质试件胶原纤维的微观形貌。

结果

气体流量、输入功率和处理时间对牙本质表面温度及润湿性均有显著影响(P<0.01)。随着处理时间延长,牙本质表面温度呈上升趋势;输入功率越大,牙本质表面温度越高;气体流量越大,升温越迅速。气体流量为5 L/min、输入功率为11 W处理60 s时,牙本质试件表面温度最高,为(35.10±0.24) ℃。随着NTAPP处理时间延长,与阴性对照组牙本质表面接触角(75.57°±1.45°)相比,各NTAPP组牙本质表面接触角均显著减小(P<0.05);随着气体流量及输入功率增加,接触角呈减小趋势,气体流量为5 L/min、输入功率为10 W处理20 s后牙本质表面接触角最低,为13.19°±2.01°。FE-SEM显示,随着输入功率增大及处理时间延长,胶原纤维出现断裂、融合等不同程度的破坏。

结论

NTAPP处理可显著改变牙本质表面温度、润湿性及微观形貌,效果与设备的气体流量、输入功率和处理时间密切相关。

引用本文: 王丹杨, 汪鹏, 谢娜, 等.  氦气源低温常压等离子体处理对牙本质表面性能影响的体外研究 [J] . 中华口腔医学杂志, 2021, 56(2) : 182-189. DOI: 10.3760/cma.j.cn112144-20200410-00203.
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低温常压等离子体(non-thermal atmospheric pressure plasma,NTAPP)是一种绿色、高效的新型表面处理技术1,可用于牙齿美白、牙周治疗、灭菌、粘接及修复材料改性2, 3, 4。NTAPP处理矿化牙本质,可通过清洁、蚀刻作用以及向牙面接枝活性基团修饰牙本质表面理化性质;NTAPP处理脱矿牙本质,可增加胶原纤维表面含氧官能团,并使其微观结构发生变化,从而提升牙本质粘接性能5, 6。但NTAPP在放电过程中可能引起局部温度升高而破坏材料表面结构7。已有研究显示,等离子体短时间处理牙本质可显著提高粘接强度,长时间处理则降低粘接强度68,使其在牙髓-牙本质复合体等热敏感性高的生物材料中应用受限。NTAPP的产生受多种因素影响,如何正确选择放电参数,既能有效处理生物组织又能减少损害,亟需深入研究。本项研究探讨不同参数设定下氦气源NTAPP射流处理对牙本质表面温度、润湿性及胶原纤维微观形貌的影响,筛选合理参数范围,明确NTAPP对牙本质产生破坏作用的不利参数,以期为NTAPP在口腔领域的研究和应用提供参考。

 
 
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